AR镀膜玻璃是利用某种工艺在玻璃基片表面镀制增透膜,增加光的通过率,从而降低玻璃表面的反射,称之为增透玻璃或者减反射玻璃。AR玻璃被广泛应用于显示屏、博物馆、高端商业展示柜、灯具、建筑幕墙及室内隔断、相框、太阳能光伏组件及温室等各个领域。
摘要.分析了视场展宽迈克耳孙干涉仪(FWMI)用作高光谱分辨率激光雷达(HSRL)光谱滤光器时一个未引起广泛重视却又非常重要的问题:FWMI增透(AR)膜反射率容差评估。.由于FWMI不同材料分界面的AR膜无法做到100%透射,一旦光线经过该表面,将引起部分光被反射...
增透膜也必须具有较低反射率。图2中,蓝线显示该涂层(是较厚双层增透膜)的反射率。如果针对一种激光波长(介于1030nm至1070nm之间)优化了此类涂层,则可以确保在定义的波长下残留反射小于0.1%。如果这些涂层用于1030至1070nm范围内的
AR:Anti-Reflection,减反膜,也叫增透膜AF:Anti-fingerprint,防指纹膜IR:一般叫红外截止滤光膜,准确叫法是IR-CUTFILTER,类似的还有UV-IRCUTFILTERAS:Anti-Scratch防刮擦膜,增加硬度的膜层,在汽车行业有也叫钻石膜,
薄膜光学溶胶-凝胶法二氧化硅增透膜表面处理水氨六二硅氮烷FilmopticsSol-gelmethodSilicaantireflectivecoatingsSurfacetreatmentsWater-NH3hexamethyldisilazane
热搜:防雾膜棒料红外反射膜光电二极管镀膜机反射膜光谱仪光电探头真空镀银滤光片光器件应用光学zemax激光远心镜头sio2增透膜离子源栅网zemax论文高反膜半反半透膜
要在光纤的断面镀一层增透膜,要求光纤的断面要很干净,没有灰尘。可是在研磨和抛光后的光纤断面上会有很明显的附着物,请问用什么方法可以使光纤的断面变得很干净?
与传统的多层增透膜相比,这种混合方法不仅可以获得更好的增透性能,而且可以减少不同带隙之间反射损耗的差异,有助于我们有效改善电流匹配,提高四带隙光伏的整体效率.研究了将Ta2O5/SiO2多层与SiO2纳米柱相结合的纳米柱辅助多层抗反射(AR
SWS具有良好的抗反射性能,并且比AR涂层表现出更低的偏振敏感性。在高于500°C的温度下,带有HfO2保护膜的SWS具有比多层增透膜更好的耐热性能。此外,HfO2保护膜显着提高了ZnSSWS的机械性能,并且在HfO2膜未破裂时类似于HfO2覆盖的
本文将SiO2和TiO2作为增透膜系的高低折射率材料,Al2O3作为保护膜材料,利用等离子体化学气相沉积(PECVD)的方法在蓝宝石基底上沉积增透保护膜,对薄膜的工艺及其性能进行了系统的研究,具体内容如下:根据激光(1.064μm)红外(3-5μm)光学系统的波段
AR镀膜玻璃是利用某种工艺在玻璃基片表面镀制增透膜,增加光的通过率,从而降低玻璃表面的反射,称之为增透玻璃或者减反射玻璃。AR玻璃被广泛应用于显示屏、博物馆、高端商业展示柜、灯具、建筑幕墙及室内隔断、相框、太阳能光伏组件及温室等各个领域。
摘要.分析了视场展宽迈克耳孙干涉仪(FWMI)用作高光谱分辨率激光雷达(HSRL)光谱滤光器时一个未引起广泛重视却又非常重要的问题:FWMI增透(AR)膜反射率容差评估。.由于FWMI不同材料分界面的AR膜无法做到100%透射,一旦光线经过该表面,将引起部分光被反射...
增透膜也必须具有较低反射率。图2中,蓝线显示该涂层(是较厚双层增透膜)的反射率。如果针对一种激光波长(介于1030nm至1070nm之间)优化了此类涂层,则可以确保在定义的波长下残留反射小于0.1%。如果这些涂层用于1030至1070nm范围内的
AR:Anti-Reflection,减反膜,也叫增透膜AF:Anti-fingerprint,防指纹膜IR:一般叫红外截止滤光膜,准确叫法是IR-CUTFILTER,类似的还有UV-IRCUTFILTERAS:Anti-Scratch防刮擦膜,增加硬度的膜层,在汽车行业有也叫钻石膜,
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要在光纤的断面镀一层增透膜,要求光纤的断面要很干净,没有灰尘。可是在研磨和抛光后的光纤断面上会有很明显的附着物,请问用什么方法可以使光纤的断面变得很干净?
与传统的多层增透膜相比,这种混合方法不仅可以获得更好的增透性能,而且可以减少不同带隙之间反射损耗的差异,有助于我们有效改善电流匹配,提高四带隙光伏的整体效率.研究了将Ta2O5/SiO2多层与SiO2纳米柱相结合的纳米柱辅助多层抗反射(AR
SWS具有良好的抗反射性能,并且比AR涂层表现出更低的偏振敏感性。在高于500°C的温度下,带有HfO2保护膜的SWS具有比多层增透膜更好的耐热性能。此外,HfO2保护膜显着提高了ZnSSWS的机械性能,并且在HfO2膜未破裂时类似于HfO2覆盖的
本文将SiO2和TiO2作为增透膜系的高低折射率材料,Al2O3作为保护膜材料,利用等离子体化学气相沉积(PECVD)的方法在蓝宝石基底上沉积增透保护膜,对薄膜的工艺及其性能进行了系统的研究,具体内容如下:根据激光(1.064μm)红外(3-5μm)光学系统的波段