10北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理陈昕;TFT高性能光刻胶国产化势在必行[N];中国电子报;2009年相关博士学位论文前6条1周新江;基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究[D];华中科技大学;2015年
2014-7-310:01:00发布者:北京中科华创知识产权代理有限公司山东大学消息:“一项实用新型专利相当于发表一篇SCI或EI论文,一项发明专利相当于发表两篇SCI或EI论文;在职称评,一项发明专利相当于一项省部级科技成果三等奖;在申请博士学位时,一项发明专利(前两位)相当于一…
中国期刊论文采编室——学术期刊·论文发表.1.作者投稿需要注明作者信息,多名作者需要分开表列。.通讯地址请尽量详细到区,街,号,以便杂.志能顺利邮递出。.电话请尽量留个人手机号,我们会给作者予以保密处理.3.论文长度限3个版面内。.每版面字符...
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已发表研究论文880余篇,被他引3.3万余次,h因子94;编写《可降解医用高分子材料》《生物医用高分子》《Biopolymers》Vol.10《GeneralAspectsandSpecialApplications》专著3部。
商誉减值实务操作案例研究(一).《企业会计准则第20号——企业合并》明确了商誉的确认依据是:非同一控制下,购买方对合并成本大于合并中取得的被购买方可辨认净资产公允价值份额的差额,应当确认为商誉。.本来这种企业间你情我愿的商业…
本文关键词:纳米光刻中调焦调平测量系统的工艺相关性,由笔耕文化传播整理发布。【摘要】:随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,光刻机中的对焦控制精度需要达到几十纳米。在纳米精度范围内,硅片上的集成电路(IC)工艺显著影响调焦调平系统的测量精度。
科华论文期刊肇庆学院数学与统计学院炼火网络王者之路手游官方彩钢瓦设备,C型钢设备,EVA收纳包厂家-铅笔盒稻城亚丁旅游网北京东易日盛_家庭装修_石家庄太行科技中等专业学反恐精…
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本文关键词:纳米光刻中调焦调平测量系统的工艺相关性,由笔耕文化传播整理发布。【摘要】:随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,光刻机中的对焦控制精度需要达到几十纳米。在纳米精度范围内,硅片上的集成电路(IC)工艺显著影响调焦调平系统的测量精度。
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