光学薄膜研究与设计毕业论文.docx,编号:桂幷令孑科技大常GUILINUNIVERSITYOFELECTRONICTECHNOLOGY毕业论文光学薄膜在现代光学仪器中有着着重要的地位.对于光学仪器来说,单层金屈膜的特性已能满足常用的要求,但随着激光应用的...
光学薄膜论文,光学镀膜技术及膜系设计-oecr.光电工程师社区首页›光电论坛›光电理论及应用技术›光学镀膜技术及膜系设计›光学薄膜论文.本版推荐内容.<.>.新柯隆说明书MIC-1350.…
硅薄膜的及光学性能研究_硕士论文范文摘要:本文采用磁控溅射技术,通过改变溅射功率了系列非晶硅薄膜,并研究了薄膜的光学性能。结果发现,随着溅射功率的提高,硅薄膜生长速率线性增加。红外光谱测试表明,硅薄膜中含有...
博士毕业论文—《短中波红外探测系统光学薄膜关键技术研究》摘要第1-7页Abstract第7-19页第1章绪论第19-35页1.1本课题研究的目的及意义
在本文中,我们采用射频磁控溅射方法Cd1-xMgxO薄膜,薄膜的晶体结构通过使用西门子D500衍射仪的X射线衍射(XRD)测定,利用范德堡配置的霍尔效应测量与一个0.6T的磁场在室温下获得所有样品电子浓度和迁移率,探讨与MgO合金化的CdO具有7.8eV
激光与光电子学进展杂志2020年第13期PECVD技术光学薄膜的研究进展用户:壹诺芊唫2021-04-28上传侵权/申诉导语本论文发表于激光与光电子学进展杂志,属于工业相关论文范文材料。仅供大家论文写作参考。...
论文基于表面热透镜原理研究了光学薄膜弱吸收测量技术,对已有的弱吸收测量系统进行了改进,搭建了吸收与损伤实时在线测量系统,并进行了光学薄膜吸收特性与损伤行为的相关研究。.概括来说,论文包括以下几部分内容。.(1)论述了薄膜吸收的测量...
【摘要】:薄膜厚度是决定薄膜性质和性能的最基本参量之一。随着现代镀膜工艺的不断发展,实现对纳米量级薄膜(几纳米到几百纳米范围内)厚度的准确测量变得非常重要。在目前通用的机械法、光学法等方法中,光学测量方法因为具有精度高、速度快、无损测量等优势而成为主要检测手段。
采用射频反应磁控溅射技术,在不同气压下了二硫化钼薄膜。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、紫外可见光光谱仪等对薄膜的表面形貌、结构和光学性能进行了表征、分析。结果表明:利用射频反应磁控溅射的MoS2薄膜,表面平整、颗粒均匀、致密,缺陷少;沉积气压1.2Pa
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在本文中,我们采用射频磁控溅射方法Cd1-xMgxO薄膜,薄膜的晶体结构通过使用西门子D500衍射仪的X射线衍射(XRD)测定,利用范德堡配置的霍尔效应测量与一个0.6T的磁场在室温下获得所有样品电子浓度和迁移率,探讨与MgO合金化的CdO具有7.8eV
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【摘要】:薄膜厚度是决定薄膜性质和性能的最基本参量之一。随着现代镀膜工艺的不断发展,实现对纳米量级薄膜(几纳米到几百纳米范围内)厚度的准确测量变得非常重要。在目前通用的机械法、光学法等方法中,光学测量方法因为具有精度高、速度快、无损测量等优势而成为主要检测手段。
采用射频反应磁控溅射技术,在不同气压下了二硫化钼薄膜。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、紫外可见光光谱仪等对薄膜的表面形貌、结构和光学性能进行了表征、分析。结果表明:利用射频反应磁控溅射的MoS2薄膜,表面平整、颗粒均匀、致密,缺陷少;沉积气压1.2Pa