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集成电路原理制造工艺及原理技术--期末论文.ppt,1.半导体材料的主要特点2.硅的晶体结构3.硅单晶材料的制造过程4.直拉...
半导体器件制造工艺及设备论文栏目下面包含有约827篇半导体器件制造工艺及设备硕士学位论文和博士学位论文，或是相关的...
等集成电路工艺线。因此充分利用微电子芯片生产线的闲置或淘汰产能，可直接将成熟的集成电路工艺直接应用于硅光芯片的超大规模生产制造。近年来，台积电、Intel、GlobalFoundries等CMOS晶圆厂均开发出了商用化硅光芯片工艺流程，硅光芯片的开发流程
图示：利用优化的二维半导体顶栅工艺制作的各种常见集成电路单元。（来源：论文）通过算法优化后的晶圆级二维半导体工艺，可以得到兼容性强的增强型顶栅晶体管，并基于此工艺成功演示了各种数字、模拟、存储、光电探测等集成电路单元。
《集成电路工艺原理(芯片制造)》课程+试题库+试题,芯片制造,集成芯片,芯片工艺用来做芯片的高纯硅被称为（半导体级硅），英文简称（GSG有时也被称为（电子级硅单晶硅生长常用（CZ）两种生长方式，生长后的单晶硅被称为（晶圆的英文是（wafer），其常用的材料是（晶圆的九个工艺...
先进电池材料课程论文学院材料科学与工程学院班级材料化学11-2学号201123242345姓名日期2014.05.27硅太阳能电池的工作原理与结构及制造工艺流程图摘要随着全球煤炭、石油等不可再生能源的减少，以及由这些燃烧带来的温室效应。
小尺寸半导体器件中硅化物工艺优化及缺陷改进研究.周真.【摘要】：金属硅化物在集成电路制造技术中起着非常重要的作用。.金属硅化物主要应用在源漏电极和硅栅电极与金属之间的接触。.其中自对准硅化物(self-alignedsilicide)工艺已经成为近期的超高速CMOS...
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等集成电路工艺线。因此充分利用微电子芯片生产线的闲置或淘汰产能，可直接将成熟的集成电路工艺直接应用于硅光芯片的超大规模生产制造。近年来，台积电、Intel、GlobalFoundries等CMOS晶圆厂均开发出了商用化硅光芯片工艺流程，硅光芯片的开发流程
图示：利用优化的二维半导体顶栅工艺制作的各种常见集成电路单元。（来源：论文）通过算法优化后的晶圆级二维半导体工艺，可以得到兼容性强的增强型顶栅晶体管，并基于此工艺成功演示了各种数字、模拟、存储、光电探测等集成电路单元。
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小尺寸半导体器件中硅化物工艺优化及缺陷改进研究.周真.【摘要】：金属硅化物在集成电路制造技术中起着非常重要的作用。.金属硅化物主要应用在源漏电极和硅栅电极与金属之间的接触。.其中自对准硅化物(self-alignedsilicide)工艺已经成为近期的超高速CMOS...
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