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天津大学硕士学位论文对光刻工艺中在光阻底部增加抗反射涂层（BARC）的研究姓名：袁烽申请学位级别：硕士专业：电子与通信工程（三）指导教师：张之圣;程高龙20081101摘要中文摘要随着半导体工艺的进一步发展，因此要求光刻工艺中所能达到的线宽越来越小。
天津大学硕士学位论文光刻工艺中聚酰亚胺层光阻减量和线宽均匀性研究姓名：王军申请学位级别：硕士专业：集成电路工程指导教师：毛陆虹；汤加苗2011-11-01中文摘要自从第一个晶体管问世以来，半导体技术的发展已超过多半个世纪了，现在它仍保持着强劲的发展动力，继续遵循摩尔定律...
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]期望有利于消除或弱化光阻法检查射液中的外在影响因素，继而在提升光阻法检测精度的同时，实现注射液使用安全的有效保…
光阻涂布设备一般皆配以高速旋转马达，鉴于马达有正常工作范围，一般推荐在1000’5000之间，所以，在选择光阻黏度的时候，通常选择在3000’4000为最佳。此外，除转速决定光阻厚度外，光阻温度、湿度、以及抽风的量，也会影响光阻厚度...
若光阻侧壁角度大于90°，则显影后的光阻可能会崩溃；而若光阻侧壁角度小于90°，则有非完全曝光光阻的潜在风险。若要控制光阻的截面轮廓形状，焦点便是首要因素。图2显示了焦点如何在曝光后影响不透光体。图1：从光微影技术到蚀刻的简化步骤。
杜永杰;;一种提升干膜光阻剂解析能力的新方案[A];中国感光学会辐射固化专业委员会2020第二十一届辐射固化年会论文报告集[C];2020年4粱怀舒;曹友新;;干膜显影的改善与提高[A];第六届全国印制电路学术年会论文汇编[C];2000年
光阻：在晶圆上涂上一层光阻(感光层)显影：用强光透过「光罩」后照在晶圆上。这样的话，除了「电路」该出现的部分，其余光阻的部分是不是都照到光了？蚀刻：把没有光阻覆盖的薄膜冲蚀光阻去除：把上面的光阻去除，留下的薄膜部分就是电路图了！
一四年十一月十日四川信息职职技职学号1126595455月：任职下，理解消化任职要求；初步职定方案月：中期职职。职职职，分析解10月中旬：完成硬件职接及职职；10月下旬-11月上旬：完成职文，准职答职；11月中旬-12职有卿．555职基职...
中文题目可调光、色温LED驱动电路设计英文题目colorTemperatureadjustableLEDdrivercircuit数理系年级专业：08级光信息科学与技术0810022228指导教师：讲师2012毕业设计（论文）诚信声明书本人郑重声明：在毕业设计工作中严格遵守学校...
可见光电探测器因其器件结构简单、功耗低等优点已成为光电探测领域的研究重点。作为II-VI族化合物半导体的重要代表,ZnTe已经被广泛应用于纯绿色发光二极管、太阳能电池以及太赫兹电磁波辐射与探测设备等领域。但由于受纳米级材料技术的限制以及对光电导微观机理的
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天津大学硕士学位论文光刻工艺中聚酰亚胺层光阻减量和线宽均匀性研究姓名：王军申请学位级别：硕士专业：集成电路工程指导教师：毛陆虹；汤加苗2011-11-01中文摘要自从第一个晶体管问世以来，半导体技术的发展已超过多半个世纪了，现在它仍保持着强劲的发展动力，继续遵循摩尔定律...
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光阻涂布设备一般皆配以高速旋转马达，鉴于马达有正常工作范围，一般推荐在1000’5000之间，所以，在选择光阻黏度的时候，通常选择在3000’4000为最佳。此外，除转速决定光阻厚度外，光阻温度、湿度、以及抽风的量，也会影响光阻厚度...
若光阻侧壁角度大于90°，则显影后的光阻可能会崩溃；而若光阻侧壁角度小于90°，则有非完全曝光光阻的潜在风险。若要控制光阻的截面轮廓形状，焦点便是首要因素。图2显示了焦点如何在曝光后影响不透光体。图1：从光微影技术到蚀刻的简化步骤。
杜永杰;;一种提升干膜光阻剂解析能力的新方案[A];中国感光学会辐射固化专业委员会2020第二十一届辐射固化年会论文报告集[C];2020年4粱怀舒;曹友新;;干膜显影的改善与提高[A];第六届全国印制电路学术年会论文汇编[C];2000年
光阻：在晶圆上涂上一层光阻(感光层)显影：用强光透过「光罩」后照在晶圆上。这样的话，除了「电路」该出现的部分，其余光阻的部分是不是都照到光了？蚀刻：把没有光阻覆盖的薄膜冲蚀光阻去除：把上面的光阻去除，留下的薄膜部分就是电路图了！
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