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湖南文理学院芙蓉学院毕业设计(论文)外文资料翻译1.外文资料翻译译文；2.外文原文。指导教师评语：签名：附件1：外文资料翻译译文光刻投影镜头多闭环温度控制系统国家重点实验室，数字制造装备与工艺，华中科技大学,武汉430074，中国大学天华学院，上海师范大学，上海201815，中国2008…
（光学专业优秀论文）激光干涉光刻技术光学真正形成一门科学，应该从建立反射定律和折射定律的时代算起，这两个定律奠定了几何光学的基础。17世纪，望远镜和显微镜的应用大大促进了几何光学的发展。光的本性（..
申请上海交通大学工程硕士学位论文利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距系：微电子学院工程领域：软件工程交大导师：程秀兰教授企业导师：施春山工程硕士：袁伟号：1052102136上海交通大学微电子学院2007利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距摘要集成电路产业一直向着集成度越来越高...
光学光刻中英文外文文献翻译.外文文献翻译完整版字数4366(含：英文原文及中文译文)文献出处：Hongfei,Xiaoping.TemperatureControlSystemMulti-closedLoopsLithographyProjectionLens[J].ChineseJournalMechanicalEngineering,2009,22(2):207-213.中文译文用于光刻投影镜头的多闭环…
光刻机镜头光学设计探秘.第一部分DUV.光刻机，一直是我心里神圣的存在，是人类世界的顶级装备之一，也是顶级的光学系统之一。.它是那么的令人敬畏，敬畏到现在商用EUV基本上ASML一家独大，敬畏到ASML光刻机中单CarlZeiss的光学系统要上亿人民币，敬畏到...
光学定心及装配技术研究——所有资料文档均为本人悉心收集，全部是文档中的精品，绝对值得下载收藏！分类号：TH74UDC：68l编号：光学定心及装配技术研究OPTICALCENTERINGPROCESSINGANDASSEMBLYTEC｝刑OLOGYASSEARCH学位授予单位及代码：量查堡王盘生学科专业名称及代码：堂堂工壁lQ！
SOC材料与工艺2(光刻胶非光学光刻刻湿）.3.8晶圆处理制程（WaferFabrication；简称WaferFab）图形转换：将设计在掩膜版(类似于照相底片)上的图形转移到半导体单晶片上a.光刻（接触光刻、接近光刻、投影光刻、电子束光刻）b.刻蚀技术(湿法刻蚀、干法刻蚀...
光刻机：光源、镜头与控制系统目前，市面上比较成熟的光刻机根据光源不同，可分为紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）和极紫外光源（EUV）。中国在用的最先进的光刻机就是采用ArF光源的DUV光刻机，我们知道最初的ArF光刻机采用的是干式光刻...
光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度透光以及高抛光。目前，符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造，先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，能够达到这一标准的公司并不多(光刻机工艺制程越高，要求也就越高)。
镜头是光刻机最核心的部分，采用的不是一般的镜头，可以达到高2米直径1米，甚至更大。光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，目前光刻机镜头最强大的是老牌光学仪器公司德国蔡司，ASML用的就是他家的镜头。
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光刻机：光源、镜头与控制系统目前，市面上比较成熟的光刻机根据光源不同，可分为紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）和极紫外光源（EUV）。中国在用的最先进的光刻机就是采用ArF光源的DUV光刻机，我们知道最初的ArF光刻机采用的是干式光刻...
光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度透光以及高抛光。目前，符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造，先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，能够达到这一标准的公司并不多(光刻机工艺制程越高，要求也就越高)。
镜头是光刻机最核心的部分，采用的不是一般的镜头，可以达到高2米直径1米，甚至更大。光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，目前光刻机镜头最强大的是老牌光学仪器公司德国蔡司，ASML用的就是他家的镜头。
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