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论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
来源：内容来自微信公众号半导体行业观察（ID：icbank），作者「华创证券」，谢谢。半导体芯片生产主要分为IC设计、IC制造、IC封测三大环节。IC设计主要根据芯片的设计目的进行逻辑设计和规则制定，并根…
光刻胶材料1、负性光刻胶主要有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的KPR为代表，后者以OMR系列为代表。2、正性光刻胶主要以重氮醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。最常用的有AZ–1350系列。正胶的主要...
光刻机核心材料的突破在半导体行业中，有一种极为关键的核心设备，全球所有芯片制造商都离不开它，这项设备名为光刻机。作为生产芯片的必需品，光刻机的地位几乎是无可替代的，但由于工艺难度太高，直接导致了其稀缺性，只有那些最顶尖的芯片代工厂才拥有足够的光刻机。
国产光刻机产业链，又迎好消息。近日，据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》（NanoLetters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术5nm间隙电极和阵列》（5nmNanogapElectrodesandArraysbya...
近期，光刻机的相关消息铺天盖地，在国际贸易摩擦反复无常的环境背景下，业界对于仍处处受制于他国的光刻机设备格外关注。据了解，光刻机是通过光学系统将光掩模版上设计好的集成电路图形印制到硅衬底的感光材料上，实现图形转移，根据应用工序不同，光刻机可以用于集成电路的制造...
简单点来说，光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。镜头：镜头是光刻机最核心的部分，采用的不是一般的镜头，可以达到高2米直…
虽然提高光刻投影物镜的数值孔径NA的值和使用短波长的曝光光源可以部分提高分辨率，减小特征线宽，但却对光刻机的套刻精度提出了更高的要求，为此设计高精度的光刻对准系统刻不容缓离散化的相位以及掩模的对准误差仍影响二元光学元件的制作精度和...
重要性堪比光刻机，光刻胶被日企垄断，国产奋起直追拿下首个订单,半导体,垄断,光刻胶,光刻,材料作为人类智慧结晶的代表，芯片在半导体行业上起着至关重要的作用。然而，因为光刻机一直受限于人，实现国产替代迫在眉睫，所以国产企业正在加速研发光刻机。
01光刻机《这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背》制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限。在“十二五”科技成就展览上，中国生产的最好的光刻机，精度是90纳米。这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外已经做到了十几纳米。
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
来源：内容来自微信公众号半导体行业观察（ID：icbank），作者「华创证券」，谢谢。半导体芯片生产主要分为IC设计、IC制造、IC封测三大环节。IC设计主要根据芯片的设计目的进行逻辑设计和规则制定，并根…
光刻胶材料1、负性光刻胶主要有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的KPR为代表，后者以OMR系列为代表。2、正性光刻胶主要以重氮醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。最常用的有AZ–1350系列。正胶的主要...
光刻机核心材料的突破在半导体行业中，有一种极为关键的核心设备，全球所有芯片制造商都离不开它，这项设备名为光刻机。作为生产芯片的必需品，光刻机的地位几乎是无可替代的，但由于工艺难度太高，直接导致了其稀缺性，只有那些最顶尖的芯片代工厂才拥有足够的光刻机。
国产光刻机产业链，又迎好消息。近日，据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》（NanoLetters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术5nm间隙电极和阵列》（5nmNanogapElectrodesandArraysbya...
近期，光刻机的相关消息铺天盖地，在国际贸易摩擦反复无常的环境背景下，业界对于仍处处受制于他国的光刻机设备格外关注。据了解，光刻机是通过光学系统将光掩模版上设计好的集成电路图形印制到硅衬底的感光材料上，实现图形转移，根据应用工序不同，光刻机可以用于集成电路的制造...
简单点来说，光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。镜头：镜头是光刻机最核心的部分，采用的不是一般的镜头，可以达到高2米直…
虽然提高光刻投影物镜的数值孔径NA的值和使用短波长的曝光光源可以部分提高分辨率，减小特征线宽，但却对光刻机的套刻精度提出了更高的要求，为此设计高精度的光刻对准系统刻不容缓离散化的相位以及掩模的对准误差仍影响二元光学元件的制作精度和...
重要性堪比光刻机，光刻胶被日企垄断，国产奋起直追拿下首个订单,半导体,垄断,光刻胶,光刻,材料作为人类智慧结晶的代表，芯片在半导体行业上起着至关重要的作用。然而，因为光刻机一直受限于人，实现国产替代迫在眉睫，所以国产企业正在加速研发光刻机。
01光刻机《这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背》制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限。在“十二五”科技成就展览上，中国生产的最好的光刻机，精度是90纳米。这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外已经做到了十几纳米。
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