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作者朱伟忠学位类别博士答辩日期2005-05-22授予单位中国科学院上海应用物理研究所授予地点上海应用物理研究所导师徐洪杰关键词软X射线金属型透射光栅严格耦合波方法电子束光刻衍射效率软X射线干涉光刻其他题名
X射线光刻及其在微电子技术中的应用前景.刘泽文.【摘要】：本文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。.摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光刻技术。.采用波长为1nm左右的X射线进行接近式...
X射线光刻及其在微电子技术中的应用前景.刘泽文.【摘要】：本文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。.摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光刻技术。.采用波长为1nm左右的X射线进行接近式...
光刻技术的现状与进展毕业论文（资料）毕业,光刻,及,毕业论文,光刻及,论文论文,光刻技术的,设计论文,光刻技术,论文资料所属院系电子工程系实习单位工作部门（工种）实习起讫时间带教老师职称/职务联系教师职称/职务指导教师职称/职务一、毕业实习慨况1、对实习过程的回顾不知不觉...
华中科技大学硕士学位论文极紫外线光刻技术（使用波长10—70r1In的紫外光）和X射线光刻技术（使用波长O．1—10nm的X光）也有其难处，如：常规的透镜不能透过极端紫外光，也不能使x光聚焦；高能辐射也会迅速破坏掩模和透镜种的许多
X射线复合折射透镜的设计与制作.黄承超.【摘要】：近年来，由于复合折射透镜具有独特的光学性能，已成为X射线光学领域内的一个重要研究方向，其研究成果广泛应用于第三代同步辐射光源中。.在过去十年里，复合折射透镜走过了从无到有，从单一到...
光刻技术经历了接触式光刻、接近式光刻、分步重复式等倍投影光刻、步进式缩小投影光刻、步进扫描式投影光刻等典型光刻技术过程，极紫外光刻、X射线光刻正处于研究和使用阶段。下一代光刻技术如纳米压印光刻、原子力光刻等尚处于前沿研究中。
本论文采用了基于紫外光刻工艺的准LIGA技术开展了X射线吸收光栅的制作工艺研究,论文主要工作和成果如下:1、为了制作大尺寸大高宽比光刻胶光栅结构,分别对紫外光刻工艺中的曝光工艺与显影工艺进行了参数优化。.研究了曝光剂量对光栅线宽的影响,并通过...
X射线的波长更短，因此获得的图形的分辨率有可能更高。目前X射线光刻被认为是100nm线条以下半导体器件制造的主要工具。X射线光刻的主要优点【18】是它的景深容易控制且视场大，X射线对光刻工艺中的尘埃不敏感，所以成品率比较高。由于
重庆大学硕士学位论文用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究姓名：王强申请学位级别：硕士专业：光学工程指导教师：张流强20070420重庆大学硕士学位论文中文摘要摘要光学光刻技术一直是微技术的主流技术之一，是近来世界各国研究的重点。
作者朱伟忠学位类别博士答辩日期2005-05-22授予单位中国科学院上海应用物理研究所授予地点上海应用物理研究所导师徐洪杰关键词软X射线金属型透射光栅严格耦合波方法电子束光刻衍射效率软X射线干涉光刻其他题名
X射线光刻及其在微电子技术中的应用前景.刘泽文.【摘要】：本文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。.摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光刻技术。.采用波长为1nm左右的X射线进行接近式...
X射线光刻及其在微电子技术中的应用前景.刘泽文.【摘要】：本文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。.摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光刻技术。.采用波长为1nm左右的X射线进行接近式...
光刻技术的现状与进展毕业论文（资料）毕业,光刻,及,毕业论文,光刻及,论文论文,光刻技术的,设计论文,光刻技术,论文资料所属院系电子工程系实习单位工作部门（工种）实习起讫时间带教老师职称/职务联系教师职称/职务指导教师职称/职务一、毕业实习慨况1、对实习过程的回顾不知不觉...
华中科技大学硕士学位论文极紫外线光刻技术（使用波长10—70r1In的紫外光）和X射线光刻技术（使用波长O．1—10nm的X光）也有其难处，如：常规的透镜不能透过极端紫外光，也不能使x光聚焦；高能辐射也会迅速破坏掩模和透镜种的许多
X射线复合折射透镜的设计与制作.黄承超.【摘要】：近年来，由于复合折射透镜具有独特的光学性能，已成为X射线光学领域内的一个重要研究方向，其研究成果广泛应用于第三代同步辐射光源中。.在过去十年里，复合折射透镜走过了从无到有，从单一到...
光刻技术经历了接触式光刻、接近式光刻、分步重复式等倍投影光刻、步进式缩小投影光刻、步进扫描式投影光刻等典型光刻技术过程，极紫外光刻、X射线光刻正处于研究和使用阶段。下一代光刻技术如纳米压印光刻、原子力光刻等尚处于前沿研究中。
本论文采用了基于紫外光刻工艺的准LIGA技术开展了X射线吸收光栅的制作工艺研究,论文主要工作和成果如下:1、为了制作大尺寸大高宽比光刻胶光栅结构,分别对紫外光刻工艺中的曝光工艺与显影工艺进行了参数优化。.研究了曝光剂量对光栅线宽的影响,并通过...
X射线的波长更短，因此获得的图形的分辨率有可能更高。目前X射线光刻被认为是100nm线条以下半导体器件制造的主要工具。X射线光刻的主要优点【18】是它的景深容易控制且视场大，X射线对光刻工艺中的尘埃不敏感，所以成品率比较高。由于
重庆大学硕士学位论文用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究姓名：王强申请学位级别：硕士专业：光学工程指导教师：张流强20070420重庆大学硕士学位论文中文摘要摘要光学光刻技术一直是微技术的主流技术之一，是近来世界各国研究的重点。
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