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【摘要】：纳米压印技术作为1种新兴的微纳制造技术,受到了学术界极大的关注。UV光固化纳米压印因其工艺精度高,生产效率高,成本低,对准性好,在纳米压印中具有无可比拟的优势。在其不断发展中对核心要素之一的感光树脂的应用也提出了新的要求与挑战。
纳米压印对光学薄膜进行表面微观结构设计和处理后,可以增强显示效果,是柔性显示用光学薄膜新方法。本文通过研究分子结构对聚合物折射率的影响,设计了以4'4-硫代双苯硫酚为基体,通过环氧丙烯酸改性,两种高折射率UV预聚物的方法。
此外,压印模板与转印胶层的脱模过程是卷对卷微纳压印能否成功的关键,论文...Inthispaper,theroll-to-rollUVmicro-nanoimprintingprocessappliedtothepreparationofsuperhydrophobicthinfilmsandthemechanicalfunctionmodulesdesignedforeachand...
本论文针对单步NIL工艺无法实现高深宽比结构的缺陷,提出三掩膜软紫外纳米压印(TMLsoftUVNIL)工艺,利用中间掩膜二氧化硅(Si02)层对底部光刻胶较高的刻蚀选择比,成功实现深宽比为6的40nm光栅阵列的。利用TMLsoftUVNIL中,底胶对衬底的整平...
1纳米图像压印技术的特点纳米图像压印技术是一种新型的压印转印技术，它是将具有纳米凹凸图像的模具作印版，用预先涂有聚合物涂层的硅片或玻璃片等作基板（被印物），在相应的设备和器具配合下，通过精确压印并定型以后，通过加热或UV光照的方法使
以自制微奈米压印机热压成型微奈米压印对不同周期微结构进行压印参数之研究-国立勤益科技大学机械工程系硕士温绍钧指导教授林主恩（国立勤益科技大学机械工程系）、丁挺洲（明道大学）、颜…
2.2紫外硬化压印光刻技术（UV－NIL）使用热压印光刻技术的热塑性高分子光刻胶得须经过高温、高压、冷却的相变化过程，在脱模之后压印的图案经常会产生变形现象，因此使用热压印技术不易进行多次或三维结构的压印，为了解决此问题，有人...
虽然这可由紫外固化纳米压印技术（UV-NIL）部分的解决，但UV-NIL还是很难可逆或多重复杂纳米图案。针对这一问题，北京大学于海峰研究员课题组采用液晶基高分子复合材料发明了一种简单有效的方法，能够快速柔性基底上的可信赖复杂纳米图案。
北京大学于海峰团队AngewChem：液晶高分子复合材料用于柔性纳米压印.材料.作者：X-MOL2020-02-12.纳米压印技术（NIL）和复制纳米结构，具有可大面积、高通量、廉价等优点，已经在集成电路、高效率LED、微流控、防伪识别等领域…
图1．5构造型微透镜阵列薄膜提高OLED外量子提取效率本文重点研究微透镜阵列薄膜在OLED中的应用，分析了微透镜阵列对OLED外量子提取效率的增强作用以及定向散射作用，并对基于DMD并行光刻和热熔法结合制作微透镜阵列的工艺进行了研究。.1．2OLED的研究进展...
【摘要】：纳米压印技术作为1种新兴的微纳制造技术,受到了学术界极大的关注。UV光固化纳米压印因其工艺精度高,生产效率高,成本低,对准性好,在纳米压印中具有无可比拟的优势。在其不断发展中对核心要素之一的感光树脂的应用也提出了新的要求与挑战。
纳米压印对光学薄膜进行表面微观结构设计和处理后,可以增强显示效果,是柔性显示用光学薄膜新方法。本文通过研究分子结构对聚合物折射率的影响,设计了以4'4-硫代双苯硫酚为基体,通过环氧丙烯酸改性,两种高折射率UV预聚物的方法。
此外,压印模板与转印胶层的脱模过程是卷对卷微纳压印能否成功的关键,论文...Inthispaper,theroll-to-rollUVmicro-nanoimprintingprocessappliedtothepreparationofsuperhydrophobicthinfilmsandthemechanicalfunctionmodulesdesignedforeachand...
本论文针对单步NIL工艺无法实现高深宽比结构的缺陷,提出三掩膜软紫外纳米压印(TMLsoftUVNIL)工艺,利用中间掩膜二氧化硅(Si02)层对底部光刻胶较高的刻蚀选择比,成功实现深宽比为6的40nm光栅阵列的。利用TMLsoftUVNIL中,底胶对衬底的整平...
1纳米图像压印技术的特点纳米图像压印技术是一种新型的压印转印技术，它是将具有纳米凹凸图像的模具作印版，用预先涂有聚合物涂层的硅片或玻璃片等作基板（被印物），在相应的设备和器具配合下，通过精确压印并定型以后，通过加热或UV光照的方法使
以自制微奈米压印机热压成型微奈米压印对不同周期微结构进行压印参数之研究-国立勤益科技大学机械工程系硕士温绍钧指导教授林主恩（国立勤益科技大学机械工程系）、丁挺洲（明道大学）、颜…
2.2紫外硬化压印光刻技术（UV－NIL）使用热压印光刻技术的热塑性高分子光刻胶得须经过高温、高压、冷却的相变化过程，在脱模之后压印的图案经常会产生变形现象，因此使用热压印技术不易进行多次或三维结构的压印，为了解决此问题，有人...
虽然这可由紫外固化纳米压印技术（UV-NIL）部分的解决，但UV-NIL还是很难可逆或多重复杂纳米图案。针对这一问题，北京大学于海峰研究员课题组采用液晶基高分子复合材料发明了一种简单有效的方法，能够快速柔性基底上的可信赖复杂纳米图案。
北京大学于海峰团队AngewChem：液晶高分子复合材料用于柔性纳米压印.材料.作者：X-MOL2020-02-12.纳米压印技术（NIL）和复制纳米结构，具有可大面积、高通量、廉价等优点，已经在集成电路、高效率LED、微流控、防伪识别等领域…
图1．5构造型微透镜阵列薄膜提高OLED外量子提取效率本文重点研究微透镜阵列薄膜在OLED中的应用，分析了微透镜阵列对OLED外量子提取效率的增强作用以及定向散射作用，并对基于DMD并行光刻和热熔法结合制作微透镜阵列的工艺进行了研究。.1．2OLED的研究进展...
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