发表服务
二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究.BufferingHydrofluoricFluorideCorrosionSiliconDioxide赵孟钢ZHAOMeng-gang（西安工业大学，陕西西安710032）【Abstract】Theetchingpropertiessilicondioxidebufferedhydrogenfluoridecorrosionsolutionswerediscussed.changingrulescorrosionratesdifferenttemperatures...
二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究相关文档【论文】干氧SiO2的氢氟酸缓冲腐蚀研究氢氟酸旋转反应炉的腐蚀...24人阅读3页2.00氢氟酸溶矿硅钼蓝比色法...21人阅读3页2.00干氧SiO2的氢氟...【论文】二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究2013年第13期SCIENCE...
提供二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究word文档在线阅读与免费下载，摘要:科技信息高校讲坛SCIENCE&TECHNOLOGYINFORMATION2013年第13期况下，腐蚀产物会在硅片表面聚集，从而阻碍腐蚀均匀性，进而造成腐蚀表面粗糙[1]。图3显示了室温条件下，在...
论文生活休闲外语心理学全部建筑频道建筑文本施组方案交底用户中心充值VIP消息设置客户端书房阅读会议PPT上传书房登录注册<返回首页【二氧化硅篇】IC制程中氮化硅薄膜及相应氧化硅膜腐蚀工艺和机理研究...
在腐蚀溶解产生的天津大学硕士学位论文第一章绪论小坑内的液体与本体液体相隔离的情况下，正如孔蚀、应力腐蚀破裂、间晶腐蚀等等那样，小坑内的液体的化学成份受酸化一催化作用而发生变化，pH值降为3．8～4．8，导致局部腐蚀的强度增大。
4.2二氧化硅腐蚀的基本原理二氧化硅腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液，反应方程式为：SiO2+HF→H2SiF6+H2O其中H2SiF6为六氟硅酸，是一种可溶于水的络合物，为控制反应速率不至于过快，长加入NH4F作为缓冲剂，这种腐蚀液称为BHF腐蚀液，常用的
常州信息职业技术学院电子与电气工程学院毕业设计论文二氧化硅薄膜的主要方法3.1热氧化法3.1.1干氧氧化干氧氧化的生长机理是：在高温下，当氧气与硅片接触式，分子与其表面的硅原子反应，生成二氧化硅的起始层，其反应的方程式为：SiO由于...
楼主所选的腐蚀液适合对Si进行化学抛光，可以与Si发生化学反应，SiO2会和HNO3发生反应，被溶解掉，不能被保留。如果想对硅进行腐蚀，同时又想保留下二氧化硅，湿法化学腐蚀怕应该做不到，因为能腐蚀硅的腐蚀液则肯定能够将二氧化硅腐蚀掉。
根据你的题目，回答如下：NaOH溶液腐蚀SiO2的速率较慢（和SiO2的生长方法以及溶液浓度、温度有关），但它是一种有效各向异性的Si腐蚀液。看你的专业方向是半导体器件，难道不知道NaK离子的沾污对器件及其它工艺的影响么？
STC’99二氧化硅掩膜对氢氧化钾溶液抗蚀特性的分析中国科学院台肥智能机械研究所230031【摘要】讨论了在氢靴钾溶液中，以二氧化硅为掩摸，对半导体硅进行深度腐蚀所遇至帕q问题。.实验发现，随着KOH溶液中硅的浓度的增加．溶液对SiO的腐蚀速率也不断...
二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究.BufferingHydrofluoricFluorideCorrosionSiliconDioxide赵孟钢ZHAOMeng-gang（西安工业大学，陕西西安710032）【Abstract】Theetchingpropertiessilicondioxidebufferedhydrogenfluoridecorrosionsolutionswerediscussed.changingrulescorrosionratesdifferenttemperatures...
二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究相关文档【论文】干氧SiO2的氢氟酸缓冲腐蚀研究氢氟酸旋转反应炉的腐蚀...24人阅读3页2.00氢氟酸溶矿硅钼蓝比色法...21人阅读3页2.00干氧SiO2的氢氟...【论文】二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究2013年第13期SCIENCE...
提供二氧化硅的氢氟酸缓冲腐蚀研究word文档在线阅读与免费下载，摘要:科技信息高校讲坛SCIENCE&TECHNOLOGYINFORMATION2013年第13期况下，腐蚀产物会在硅片表面聚集，从而阻碍腐蚀均匀性，进而造成腐蚀表面粗糙[1]。图3显示了室温条件下，在...
论文生活休闲外语心理学全部建筑频道建筑文本施组方案交底用户中心充值VIP消息设置客户端书房阅读会议PPT上传书房登录注册<返回首页【二氧化硅篇】IC制程中氮化硅薄膜及相应氧化硅膜腐蚀工艺和机理研究...
在腐蚀溶解产生的天津大学硕士学位论文第一章绪论小坑内的液体与本体液体相隔离的情况下，正如孔蚀、应力腐蚀破裂、间晶腐蚀等等那样，小坑内的液体的化学成份受酸化一催化作用而发生变化，pH值降为3．8～4．8，导致局部腐蚀的强度增大。
4.2二氧化硅腐蚀的基本原理二氧化硅腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液，反应方程式为：SiO2+HF→H2SiF6+H2O其中H2SiF6为六氟硅酸，是一种可溶于水的络合物，为控制反应速率不至于过快，长加入NH4F作为缓冲剂，这种腐蚀液称为BHF腐蚀液，常用的
常州信息职业技术学院电子与电气工程学院毕业设计论文二氧化硅薄膜的主要方法3.1热氧化法3.1.1干氧氧化干氧氧化的生长机理是：在高温下，当氧气与硅片接触式，分子与其表面的硅原子反应，生成二氧化硅的起始层，其反应的方程式为：SiO由于...
楼主所选的腐蚀液适合对Si进行化学抛光，可以与Si发生化学反应，SiO2会和HNO3发生反应，被溶解掉，不能被保留。如果想对硅进行腐蚀，同时又想保留下二氧化硅，湿法化学腐蚀怕应该做不到，因为能腐蚀硅的腐蚀液则肯定能够将二氧化硅腐蚀掉。
根据你的题目，回答如下：NaOH溶液腐蚀SiO2的速率较慢（和SiO2的生长方法以及溶液浓度、温度有关），但它是一种有效各向异性的Si腐蚀液。看你的专业方向是半导体器件，难道不知道NaK离子的沾污对器件及其它工艺的影响么？
STC’99二氧化硅掩膜对氢氧化钾溶液抗蚀特性的分析中国科学院台肥智能机械研究所230031【摘要】讨论了在氢靴钾溶液中，以二氧化硅为掩摸，对半导体硅进行深度腐蚀所遇至帕q问题。.实验发现，随着KOH溶液中硅的浓度的增加．溶液对SiO的腐蚀速率也不断...
发表服务