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电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？.-微米纳米-小木虫-学术科研互动社区.当前位置：首页>微米纳米>电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？.
目前在做CVD生长的单层二硫化钼电学性能测试，采用电子束蒸发镀金的方式电极。镀膜时真空度为3.0*10^-2Pa，先蒸镀Cr（0.1埃每秒，5nm），再蒸镀Au（0.3埃每秒，50nm），蒸镀完的光学图如下图，请问这个工艺参数可以吗，真空度是不是...
电子束蒸镀法沉积钼薄膜的相关问题.沈光蕙蒂姆新材.溅射靶材镀膜金属颗粒合金熔炼材料工程师蒂姆北京新材料.我在电子束蒸镀Mo薄膜时，发现沉积速率非常低，个人认为可能是Mo熔点太高约2600摄氏度，但是蒸镀过程中速率波动较大，例如，刚开始速率约1...
【摘要】：用真空电子束蒸镀的方法半导体发光二极管LED所用的ITO膜,然后在N2气环境中进行快速热退火(RTA)处理,对ITO膜的各项特性进行测试分析。结果表明,ITO的电阻率并不随RTA温度上升单调下降,而是在达到一个峰值后下降,在不超过240s时间内,ITO电阻...
自体等离子体辅助电子束蒸镀技术研究,等离子体辅助镀膜,反常辉光放电,膜基结合力。本文提出了一种等离子体辅助电子束蒸发镀膜的新工艺方法。这种新工艺方法中,通过在自行设计的离化环与坩埚之间加上直…
论文论文期刊资讯搜索高级搜索关闭中国激光,2010,37(12):3140,网络出版:2010-12-01电子束蒸镀H4膜工艺及其在808nm激光器腔面膜上的应用ProcessInvestigationofH4ThinFilmPreparedbyElectronBeamEvaporationandApplicationonLaser...
目的:应用电子束蒸镀的方法于纯钛表面沉积不同厚度钴铬合金涂层以研究其对钛瓷结合强度的影响。方法:将60片切削钛片（25mm×5mm×0.5mm）随机分成5组,钛片均经过喷砂处理。其中4组为实验组,通过电子束蒸镀的方式于表面形成不同厚度的钴铬...
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目前在做CVD生长的单层二硫化钼电学性能测试，采用电子束蒸发镀金的方式电极。镀膜时真空度为3.0*10^-2Pa，先蒸镀Cr（0.1埃每秒，5nm），再蒸镀Au（0.3埃每秒，50nm），蒸镀完的光学图如下图，请问这个工艺参数可以吗，真空度是不是...
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【摘要】：用真空电子束蒸镀的方法半导体发光二极管LED所用的ITO膜,然后在N2气环境中进行快速热退火(RTA)处理,对ITO膜的各项特性进行测试分析。结果表明,ITO的电阻率并不随RTA温度上升单调下降,而是在达到一个峰值后下降,在不超过240s时间内,ITO电阻...
自体等离子体辅助电子束蒸镀技术研究,等离子体辅助镀膜,反常辉光放电,膜基结合力。本文提出了一种等离子体辅助电子束蒸发镀膜的新工艺方法。这种新工艺方法中,通过在自行设计的离化环与坩埚之间加上直…
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目的:应用电子束蒸镀的方法于纯钛表面沉积不同厚度钴铬合金涂层以研究其对钛瓷结合强度的影响。方法:将60片切削钛片（25mm×5mm×0.5mm）随机分成5组,钛片均经过喷砂处理。其中4组为实验组,通过电子束蒸镀的方式于表面形成不同厚度的钴铬...
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