CVD化学沉积工艺详细讲解.COMENTCOMENTDefinitionChemicalVaporDeposition(canheatedsurfacefromchemicalreactionvaporphase.vapor-transferprocesseswhichdepositionspeciesCVDCVDSiCl2H2(DCS)SiSiCl3H(TCS)SiCl4(Siltet)LPCVDSiH4,O2SiO2PECVDSiH4,N2OPECVDSi(OC2H5)4(TEOS),O2LPCVDTEOSAPCVD&SACVDTMTEOS,O3(ozone...
论文生活休闲外语心理学全部建筑频道建筑文本施组方案交底用户中心充值...1.44491.44501.44501.4450Uniformity0.00020.00020.00030.0001已经证实,在PECVDSiH4+N2O气体体系沉积SiO2的过程中,最初的反应物是(SiH3)2O,该反应物被...
2005年10Vol.34No.5JOURNALHEBEIUNIVERSITYTECHNOLOGYOctober2005文章编号:1007-2373(2005)05-0027-04多晶硅太阳电池的氮化硅薄膜性能研究,马丽芬1,2河北工业大学信息功能材料研究所,天津300130;2.
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