本论文的主要工作是参加微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)的研制.介绍了不锈钢石英钟罩式MPCVD设备的构成,该设备主要由微波源及传输系统,模式变换器以及等离子体放电腔,真空及气路系统,水冷系统以及测温系统构成;分析了微波的产生以及传输过程以及采用控制...
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)综述.doc,等离子体增强化学气相沉积(PECVD)综述摘要:本文综述了现今利用等离子体技术增强化学气相沉积(CVD)薄膜的原理、工艺设备现状和发展。关键词:等离子体;化学气相沉积;薄膜;一...
PVCD等离子体化学气相沉积设备的研究设备,等离子体,研究,化学气相,设备的,气相沉积山东大学硕士学位论文PVCD等离子体化学气相沉积设备的研究姓名:张颖颖申请学位级别:硕士专业:电力电子与电力传动指导教师:安德祥2002.11.8山东大学...
毕业论文PAGEPAGE2精品太阳能光电工程学院《材料设备概论》课程设计报告书题目:等离子体增强化学气相沉积PEVCD的研究现状姓名:专业:光伏材料与应用技术班级:09级光伏材料助考班指导教师:摘要本设计主要阐述了等离子体增强化学气相沉积PECVD的基本原理,什么叫PECVD...
等离子体刻蚀与沉积研究以及实验验证.随着集成电路的迅速发展,芯片尺寸的不断减小,对于半导体工艺的精度要求也越来越高。.等离子体刻蚀和沉积工艺由于其可以控制反应速率、精度高、较好的均匀性、可重复性等优点而广泛应用到半导体...
学术论文:PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究.氧化锌(ZnO)是新一代的II一族宽带半导体材料,具有纤锌矿晶体结构,禁带宽度为3.37eV,激子能为60meV,可以实现室温下的受激发射。.ZnO薄膜具有良好的透明导电性、压电性、光电性、压敏性,并且易于...
等离子体化学气相沉积石英玻璃的基础研究材料是人类可以利用的物质,一般是指固体。而材料学是研究材料的或工艺、材料结构与材料性能三者之间的相互关系的科学。涉及的理论包括固体物理学,材料化学,..
本论文通过研究阴极电解等离子对金属表面的作用,通过参数的调控及电解过程中信号的检测,阐明了电解等离子放电的机理,解释了清洗及沉积过程之间的关系,并依据不同类型的涂层沉积机理,设计开发了新型的金属掺杂Al_2O_3涂层。
等离子体放电及与材料相互作用示意图鉴于等离子体放电与材料相互作用领域关键物理问题研究的挑战性与紧迫性,《物理学报》特组织“等离子体物理及其材料处理”专题,邀请国内部分活跃在该领域前沿的专家撰稿,以综述和研究论文的形式,从等离子体物理及其材料处理的角度,较全面...
直线等离子体沉积/刻蚀<10<101010-6射频等离子体反应/离子刻蚀10-2~10-1101010-6~10-4磁控溅射10...本论文依托现有等离子体放电系统,通过调研和材料表面处理特殊要求,分析,设计、搭建研制了新型RF等离子体放电系统,相关放电系统的…
本论文的主要工作是参加微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)的研制.介绍了不锈钢石英钟罩式MPCVD设备的构成,该设备主要由微波源及传输系统,模式变换器以及等离子体放电腔,真空及气路系统,水冷系统以及测温系统构成;分析了微波的产生以及传输过程以及采用控制...
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本论文通过研究阴极电解等离子对金属表面的作用,通过参数的调控及电解过程中信号的检测,阐明了电解等离子放电的机理,解释了清洗及沉积过程之间的关系,并依据不同类型的涂层沉积机理,设计开发了新型的金属掺杂Al_2O_3涂层。
等离子体放电及与材料相互作用示意图鉴于等离子体放电与材料相互作用领域关键物理问题研究的挑战性与紧迫性,《物理学报》特组织“等离子体物理及其材料处理”专题,邀请国内部分活跃在该领域前沿的专家撰稿,以综述和研究论文的形式,从等离子体物理及其材料处理的角度,较全面...
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