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西安电子科技大学硕士学位论文MOCVD设备反应室的设计与分析姓名：董佳鑫申请学位级别：硕士专业：微电子与固体电子学指导教师：张进城20080101摘要摘要金属有机物化学气相淀积（MetalOrganicChemicalVaporDeposition，简称MOCVD）自20世纪60年代首次提出以来，经过70年代至80年代的发展，90年代...
MOCVD设备反应室的设计与分析.董佳鑫.金属有机物化学气相淀积(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,简称MOCVD)自20世纪60年代首次提出以来,经过70年代至80年代的发展,90年代已经成为砷化镓、磷化铟等半导体材料外延生长的核心技术。.到目前为止,从材料和器件...
【摘要】：介绍了MOCVD法的基本原理、生长步骤以及主要优缺点;并以某型号MOCVD设备为例,介绍了其主要结构组成,分析了影响MOCVD工艺的主要因素,结合维修经验总结了MOCVD的常见故障现象以及相…
MOCVD设备反应室的设计与分析.金属有机物化学气相淀积(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,简称MOCVD)自20世纪60年代首次提出以来,经过70年代至80年代的发展,90年代已经成为砷化镓、磷化铟等半导体材料外延生长的核心技术。.到目前为止,从材料和器件性能及生产...
由于进口设备价格和维护费用非常昂贵,我国必须要进行该领域研究,必须要有自己的核心工艺和核心设备,尤其是MOCVD设备,必须尽快实现技术突破和产业化。我国现阶段MOCVD设备研制尚处于起步阶段,很多核心技术都不成熟。尚未解决的问题很多,比如自主...
MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition)是生长高质量半导体薄膜材料的技术，在LED、半导体激光器、太阳能电池等多个领域都有应用。现有MOCVD设备的成本非常高，且完全依赖进口，进行MOCVD设备研究对国内半导体产业、新能源领域以及国防高端技术的发展都很有必要。MOCVD设备可以分为核心的腔体...
华中科技大学硕士学位论文MOCVD设备气体输运关键技术的研究姓名：王卫星申请学位级别：硕士专业：精微制造工程指导教师：刘胜;甘志银20080603f华中科技大学硕士学位论文摘要MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition)是生长高质量半导体薄膜材料的...
提供MOCVD设备反应室的设计与分析word文档在线阅读与免费下载，摘要:西安电子科技大学硕士学位论文MOCVD设备反应室的设计与分析姓名：董佳鑫申请学位级别：硕士专业：微电子与固体电子学指导教师：张进城20080101
华中科技大学硕士学位论文MOCVD设备气体输运与加热控制系统设计姓名：王晟申请学位级别：硕士专业：精微制造工程指导教师：甘志银20080603随着半导体技术的不断发展，半导体材料得到了广泛的使用，尤其是宽禁带的-族和-族化合物半导体材料在发光二极管、激光器、光探测器和大功率电…
国防科学技术大学硕士学位论文氮化镓有机化合物气相淀积（GaNMOCVD）设备控制系统研究姓名：胡晓宇申请学位级别：硕士专业：控制工程指导教师：李杰;魏唯20090301国防科学技术大学研究生院工程硕士学位论文GaNMOCVD设备是高...
西安电子科技大学硕士学位论文MOCVD设备反应室的设计与分析姓名：董佳鑫申请学位级别：硕士专业：微电子与固体电子学指导教师：张进城20080101摘要摘要金属有机物化学气相淀积（MetalOrganicChemicalVaporDeposition，简称MOCVD）自20世纪60年代首次提出以来，经过70年代至80年代的发展，90年代...
MOCVD设备反应室的设计与分析.董佳鑫.金属有机物化学气相淀积(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,简称MOCVD)自20世纪60年代首次提出以来,经过70年代至80年代的发展,90年代已经成为砷化镓、磷化铟等半导体材料外延生长的核心技术。.到目前为止,从材料和器件...
【摘要】：介绍了MOCVD法的基本原理、生长步骤以及主要优缺点;并以某型号MOCVD设备为例,介绍了其主要结构组成,分析了影响MOCVD工艺的主要因素,结合维修经验总结了MOCVD的常见故障现象以及相…
MOCVD设备反应室的设计与分析.金属有机物化学气相淀积(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,简称MOCVD)自20世纪60年代首次提出以来,经过70年代至80年代的发展,90年代已经成为砷化镓、磷化铟等半导体材料外延生长的核心技术。.到目前为止,从材料和器件性能及生产...
由于进口设备价格和维护费用非常昂贵,我国必须要进行该领域研究,必须要有自己的核心工艺和核心设备,尤其是MOCVD设备,必须尽快实现技术突破和产业化。我国现阶段MOCVD设备研制尚处于起步阶段,很多核心技术都不成熟。尚未解决的问题很多,比如自主...
MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition)是生长高质量半导体薄膜材料的技术，在LED、半导体激光器、太阳能电池等多个领域都有应用。现有MOCVD设备的成本非常高，且完全依赖进口，进行MOCVD设备研究对国内半导体产业、新能源领域以及国防高端技术的发展都很有必要。MOCVD设备可以分为核心的腔体...
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