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微小卫星姿态确定与磁控技术研究--优秀毕业论文研究,技术,姿态,微小卫星...2.14三轴磁强计安装示意图29图2.15冷喷气装置开启状态33图3.1扩展Kalman滤波流程37图3.2条件一卫星姿态四元数误差（磁强计+陀螺）41图3.3条件一卫星姿态欧拉...
更多相关参考论文设计文档资源请访问/lzj781219本论文中样品采用中科院沈阳科学仪器厂JGP350型磁控溅射镀膜机，真空抽气系统由机械泵（前级泵）和分子泵（主泵）组成，极限真空度可达2.010-4Pa。
磁控溅射法NiCr薄膜毕业论文开题报告.doc,苏州科技学院毕业论文开题报告论文题目磁控溅射法NiCr薄膜院系数理学院专业应用物理学系学生姓名赵春武学号0920112208指导教师沈娇艳2013年月日1．研究的背景、目的及意义背景：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩…
微颗粒表面磁控溅射镀膜研究.俞晓正.【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。.磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。.本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜...
本论文采用磁控溅射法In2Se3薄膜。.研究了溅射功率、衬底温度、工作气压、退火条件对薄膜相结构、成分、微观形貌和厚度的影响,实现了对薄膜透过率和光学带隙的调控。.研究结果表明：.1.溅射功率对薄膜的成分有显著影响,功率超过80W才能出成分...
本文是一篇电气工程论文，本文对CoNi/PZT层状复合结构的磁电耦合效应进行了数值分析，并考虑了几何效应对磁电耦合系数的影响；同时，为了满足电子器件在微型化和集成化程度上不断提高的要求，本文还对磁控溅射法PZT薄膜、CoNi...
实验室有磁控溅射设备可是没有溅射TiAu的经验，也没有好的测量厚度的方法那位高手可以介绍下经验，比如溅射条件和大致的厚度谢谢[Lasteditedby张甜on2008-10-17at11:10]回复此楼»猜你喜欢国庆节，你所在的高校发了什么福利？已经有...
华中科技大学博士学位论文磁控溅射氮化铜薄膜研究姓名：李兴鳌申请学位级别：博士专业：材料物理与化学指导教师：刘祖黎20070126本文全面系统的研究了沉积条件对直流磁控溅射氮化铜薄膜的结构和性能的影响，以及金属铝、铁、镧掺杂对直流磁控溅射氮化铜薄膜的结构和性能...
【摘要】：本论文对相对论磁控管进行了理论研究,并分别开展了C波段、S波段、L波段和P波段的粒子模拟研究。首先,我们对Hull条件和Buneman-Hartree条件与相对论磁控管的结构参数和谐振频率的关系进行了数值研究。数值计算结果表明:(1)随着有效间隙d的增加...
3.4磁控记忆合金驱动器的结构设计45-463.5磁控记忆合金式高速开关阀整体结构设计463.6材料选择46-473.7本章小结47-49第四章磁控形状记忆合金高速开关阀流场CFD分析49-614.1CFD概述49-514.2磁控记忆合金高速开关阀的CFD数学模型分析51-53
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