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您当前的位置：硕博论文网>论文范文>机械论文>超精密车削大行程两轴极速速刀具伺服装置设计研究...李荣彬，杜雪，张志辉等.光学自由曲面的超精密技术及应用[C].中国机械工程学会2003年会，制造技术与机床，2004，1（4）：17-19.[7...
目前需要一种微小型零件,该零件的特点是尺寸微小、形状复杂、精度要求较高,使用现有的超精密五轴机床不能达到零件的要求。针对这一现状,本文对超精密五轴机床进行了误差建模和灵敏度分析,确定了零件误差的主要影响因素,提出了减小误差的方法,达到了提高...
超精密与精密磨削.docx,重庆理工大学精密与特种技术论文姓名：周文杰学号：11104020436专业：机械设计制造及其自动化学院：机械工程学院中国·重庆2014年6月精密和超精密磨削机械工程学院学号：11104020436姓名...
硅晶片的超精密经过上述过程所形成的硅晶片其平面度小于但还需进一步以提高其平面度和降低表面粗糙度。.其主要过程为粗磨一精磨一化学刻蚀一抛光一电路层制作一背面磨削一切割成小块。.超精密切削的研究现状单点金刚石切削。.单点金刚石...
核心提示：当前精密和超精密精度从微米到亚微米，乃至纳米，在汽车、家电、IT电子信息高技术领域和军用、民用工业有广泛应用。同时，精密和超精密技术的发展也促进了机械、模具、液压、电子、半导体、光学…
2011-06-16求超精密技术论文。82011-01-13精密和超精密包括哪些领域2017-06-04精密研究包括哪些12018-04-05超精密都有哪些分类类型？2018-04-05超精密与传统有哪些异同？2018-02-08超精密都有哪些特点？
2011-05-24求超精密术及发展趋势论文（最好是完整的论文）42014-05-02精密及超精密的参考文献有哪些?12016-10-21精密和超精密技术对发展国防和尖端技术的重要意义12012-11-27请问大家，超精密技术有什么缺陷和不足，越详细越好。...
全套CAD图纸请加Q174320523各专业都有绪论1.1课题的背景和来源“大口径光学非球面超精密数控铣磨机〞的开发研制隶属于“国家863方案〞攻关工程，这个工程由北京微纳精密机械承接。该公司是进行精密制造技术方面产品制造和技术研究开发的制造实体，由一批国内知名专家领队和年富力强的…
超精密主要包括三个领域：超精密切削如金刚石刀具的超精密切削，可各种镜面。它已成功地解决了用于激光核聚变系统和天体望远镜的大型抛物面镜的。超精密磨削和研磨如高密度硬磁盘的涂层表面和大规模集成电路基片的。
超精密芯轴制造及Wolter-Ⅰ型极紫外光学收集镜复制工艺研究.【摘要】：现有的光刻技术采用波长193纳米的深紫外光(DUV)制造出22纳米宽的最小线宽已接近极限。.为了在同一芯片上蚀刻更小线宽,则需要使用波长更短的光波。.下一代光刻技术将使用波长13.5纳米...
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目前需要一种微小型零件,该零件的特点是尺寸微小、形状复杂、精度要求较高,使用现有的超精密五轴机床不能达到零件的要求。针对这一现状,本文对超精密五轴机床进行了误差建模和灵敏度分析,确定了零件误差的主要影响因素,提出了减小误差的方法,达到了提高...
超精密与精密磨削.docx,重庆理工大学精密与特种技术论文姓名：周文杰学号：11104020436专业：机械设计制造及其自动化学院：机械工程学院中国·重庆2014年6月精密和超精密磨削机械工程学院学号：11104020436姓名...
硅晶片的超精密经过上述过程所形成的硅晶片其平面度小于但还需进一步以提高其平面度和降低表面粗糙度。.其主要过程为粗磨一精磨一化学刻蚀一抛光一电路层制作一背面磨削一切割成小块。.超精密切削的研究现状单点金刚石切削。.单点金刚石...
核心提示：当前精密和超精密精度从微米到亚微米，乃至纳米，在汽车、家电、IT电子信息高技术领域和军用、民用工业有广泛应用。同时，精密和超精密技术的发展也促进了机械、模具、液压、电子、半导体、光学…
2011-06-16求超精密技术论文。82011-01-13精密和超精密包括哪些领域2017-06-04精密研究包括哪些12018-04-05超精密都有哪些分类类型？2018-04-05超精密与传统有哪些异同？2018-02-08超精密都有哪些特点？
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全套CAD图纸请加Q174320523各专业都有绪论1.1课题的背景和来源“大口径光学非球面超精密数控铣磨机〞的开发研制隶属于“国家863方案〞攻关工程，这个工程由北京微纳精密机械承接。该公司是进行精密制造技术方面产品制造和技术研究开发的制造实体，由一批国内知名专家领队和年富力强的…
超精密主要包括三个领域：超精密切削如金刚石刀具的超精密切削，可各种镜面。它已成功地解决了用于激光核聚变系统和天体望远镜的大型抛物面镜的。超精密磨削和研磨如高密度硬磁盘的涂层表面和大规模集成电路基片的。
超精密芯轴制造及Wolter-Ⅰ型极紫外光学收集镜复制工艺研究.【摘要】：现有的光刻技术采用波长193纳米的深紫外光(DUV)制造出22纳米宽的最小线宽已接近极限。.为了在同一芯片上蚀刻更小线宽,则需要使用波长更短的光波。.下一代光刻技术将使用波长13.5纳米...
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