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我国研发分辨力最高的紫外超分辨光刻机，可生产10nm以下工艺...正努力加载中….国内的半导体芯片对进口依赖非常高，特别是高端的内存、闪存、处理器等芯片，国内的技术落后，还不能完全国产替代。.国内半导体在制造领域是落后最多的，很…
11月29日，由中国科学院光电技术研究所（以下简称光电所）承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，该装备用365nm波长...
国产光刻机产业链，又迎好消息。近日，据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》（NanoLetters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术5nm间隙电极和阵列》（5nmNanogapElectrodesandArraysbya...
经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。换句话说，我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。光刻机，那可是芯片制造的核心装备。
我国成功研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备可22纳米芯片.该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。.据@军报记者11月29日消息，由中国科学院光…
中国成功研制超分辨率光刻机：可10nm芯片，打破国外垄断.由中国科学院光电技术研究所主导的项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。.该光刻机光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。.中科院理化…
经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。换句话说，我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。光刻机，那可是芯片制造的核心装备。
来自中科院官方的消息报道，中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说，2012年，该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检...
昨天关于中国成功超分辨率光刻机的新闻刷爆了朋友圈，这个新闻出来以后，出现了两个极端，一堆人说很牛，一堆人说吹牛。那么这两种说法...
开发一套高精度的激光直写系统，用于研究掩模超分辨光刻及其它纳米材料，把可见光波段的激光直写光刻应用到纳米光学制造领域，并形成核心技术的自主知识产权，为中国的半导体制造及微纳领域提供一种低成本、高性能的技术手段，这就本论文的意义...
我国研发分辨力最高的紫外超分辨光刻机，可生产10nm以下工艺...正努力加载中….国内的半导体芯片对进口依赖非常高，特别是高端的内存、闪存、处理器等芯片，国内的技术落后，还不能完全国产替代。.国内半导体在制造领域是落后最多的，很…
11月29日，由中国科学院光电技术研究所（以下简称光电所）承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，该装备用365nm波长...
国产光刻机产业链，又迎好消息。近日，据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》（NanoLetters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术5nm间隙电极和阵列》（5nmNanogapElectrodesandArraysbya...
经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。换句话说，我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。光刻机，那可是芯片制造的核心装备。
我国成功研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备可22纳米芯片.该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。.据@军报记者11月29日消息，由中国科学院光…
中国成功研制超分辨率光刻机：可10nm芯片，打破国外垄断.由中国科学院光电技术研究所主导的项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。.该光刻机光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。.中科院理化…
经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。换句话说，我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。光刻机，那可是芯片制造的核心装备。
来自中科院官方的消息报道，中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说，2012年，该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检...
昨天关于中国成功超分辨率光刻机的新闻刷爆了朋友圈，这个新闻出来以后，出现了两个极端，一堆人说很牛，一堆人说吹牛。那么这两种说法...
开发一套高精度的激光直写系统，用于研究掩模超分辨光刻及其它纳米材料，把可见光波段的激光直写光刻应用到纳米光学制造领域，并形成核心技术的自主知识产权，为中国的半导体制造及微纳领域提供一种低成本、高性能的技术手段，这就本论文的意义...
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