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半导体制造技术（集成电路工艺）5_depo.pdf. －表面薄膜的形成表面薄膜的形成 微固学院 分类5.1 绝缘薄膜导电薄膜 内容安排内容安排 本章主要内容：本章主要内容： 化学气相淀积CVD工艺设备本章知识要点： MSI的晶体管的各层薄膜不平 Nitride Topside ILD Oxide Pad Oxide ...
半导体工艺技术第九章薄膜淀积 39 等离子增强化学气相淀积（PECVD） 低温下（200～350 C）利用非热能来增强工艺过程 反应气体被加速电子撞击而离化。. 形成不同的活性基团， 它们间的化学反应就生成所需要的固态膜。. 13.56MHz 半导体工艺技术 第九章薄膜淀积 40 ...
半导体技术杂志基础信息： 《半导体技术》杂志是为迅速发展的中国半导体制造业服务的权威性技术刊物，也是与中国半导体产业共同成长并能坚持与国际同步的中国半导体业内最权威的国家一级刊物之一，可以毫不夸张的说它就是整个中国半导体产业发展的历史缩影。
关于半导体制程发展史——大杀器级别文献的描述：半导体制造的工艺节点，涉及到多方面的问题，如制造工艺和设备，晶体管的架构、材料等。分析半导体制造的工艺节点发展历程，其实就是在回顾半导体大咖的统 …
1半导体工艺技术与半导体设备 半导体工艺技术是一种综合技术，其中以光刻、刻蚀为代表的微细加工技术则是半导体工艺技术中最为关键的技术，并决定了最小线宽的极限。随着工艺技术从1μm以上发展到当今的14nm大生产及5-7nm研发水平。随着特征尺寸
“芯片短缺”和“建造晶圆厂”现已成为各国政府和企业界领袖们最为关注和头疼的问题。芯片与全球经济和各国GDP有什么相关性呢？半导体前沿技术的研发跟半导体产业又有什么关系呢？从全球顶级半导体学术会议和研究机构发表的论文数量可以推断出哪个国家的未来芯片研发实力最强吗？
《半导体技术》以严谨风格，权威著述，在业内深孚众望，享誉中外，对我国半导体事业的发展发挥了积极的作用。"向读者提供更好资讯，为客户开拓更大市场，提供技术成果展示、转化和技术交流的平台，达到了促进我国半导体技术不断发展的目的"是《半导体技术》的 …
聚焦：半导体工艺 突破CMOS工艺极限 半导体技术下一步往哪走？ 中国半导体设计： 30家国产AI芯片厂商的核心技术 、代表产品及典型应用场景 设计新技术： 48 V革命：超薄笔记本电脑需要GaN加数字控制技术 碳化硅(SiC)如何赋能更高能效的分布式太阳能 ...
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关于半导体制程发展史——大杀器级别文献的描述：半导体制造的工艺节点，涉及到多方面的问题，如制造工艺和设备，晶体管的架构、材料等。分析半导体制造的工艺节点发展历程，其实就是在回顾半导体大咖的统 …
1半导体工艺技术与半导体设备 半导体工艺技术是一种综合技术，其中以光刻、刻蚀为代表的微细加工技术则是半导体工艺技术中最为关键的技术，并决定了最小线宽的极限。随着工艺技术从1μm以上发展到当今的14nm大生产及5-7nm研发水平。随着特征尺寸
“芯片短缺”和“建造晶圆厂”现已成为各国政府和企业界领袖们最为关注和头疼的问题。芯片与全球经济和各国GDP有什么相关性呢？半导体前沿技术的研发跟半导体产业又有什么关系呢？从全球顶级半导体学术会议和研究机构发表的论文数量可以推断出哪个国家的未来芯片研发实力最强吗？
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