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comsol 等离子体 模块. 03-08. Comsol 等离子体 模块是用于模拟低温 等离子体 源或系统的专业用具。. 借助这个模块，工程师或科学家可以探究物理放电机理或用于评估现有或未来设计的性能。. 等离子体 相关 期刊 -详细介绍（网址、影响因子、审稿速度、录用比例 ...
“Plasma Science & Technology”（等离子体科学和技术）（简称PST）是中国科学院等离子体物理研究所主办的英文版学术期刊。其宗旨是向国内外报导我国等离子体科学界和国外科学家在高温等离子体、低温等离子体、天体空间等离子体、放电等离子体和激光 ...
高电压放电与等离子体技术在国民经济建设和社会发展中正发挥着日益重要的作用，受到了学术界和工业界的广泛关注。高电压技术、脉冲功率和等离子体代表了高压放电与等离子体应用研究方向的三大基础方向。研究同行们从经典的高电压绝缘技术到与新测量和材料技术的融合贯通，从特种电源 ...
脉冲功率及等离子体技术. 1）发展了气体放电研究方向，主要从事大气压辉光放电机理研究和超高气压（~100大气压）气体在超短脉冲（~1ns）作用下的放电理论研究。. 大气压下辉光放电的研究得到了教育部和学校985的资助，建设了比较完善的实验装置。. 根据 ...
低温等离子体因其高能量、高导电性，近年来子体发射源可分为：容性耦合射频源、感性耦合射受到了国内外研究学者的广泛关注，在催化辅助、频源、微波电子回旋共振源和螺旋波源[7-10]。其中，沉积薄膜、医疗卫生、环境保护、流动控制、表面处容性耦合射频（CCRF）源的结构简单、能在低输入 ...
中国光学期刊网——光电领域首选网络服务平台 超快X射线为水中等离子体放电击穿提供了新的视角 得克萨斯农工大学的研究人员使用阿贡国家实验室先进光子源的超快x射线成像设备，通过支持纳秒光学成像和x射线衍射计算模型，对水中（+25 kV，10 ...
用该装置对介质阻挡放电等离子体中的OH自由基和水进行了原位定量测量,考察了OH自由基数密度随气压和放电电压以及放电频率的变化情况。 实验结果表明,在(2.13~22.0)×103Pa范围内,随着气压增加,OH自由基数密度在气压较低时增加;而在较高气压时由于H2O的解离吸附作用使得体系中电子密度减小,OH自由 ...
利用流体模型模拟和发射光谱实验诊断相结合的方法, 研究了中等气压、 中等功率下射频容性耦合等离子体的放电特性。 理论上, 采用基于流体模型的COMSOL软件仿真, 建立一维等离子体放电模型, 以Ar气为工作气体, 研究了不同气压以及不同射频输入功率下等离子体电子温度和电子密度的分布规律。
常压放电低温等离子体辐射特性测量实验[J].光电工程,2007,34(1):41-45. 3 任庆磊,林麒.低温等离子体的光谱测量研究[J].光谱实验室,2007,24(5):839被引量：7 4 傅鑫,王悦,栗保明.大气压下低温表面等离子体
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是在磁控靶上施加低占空比的高功率脉冲以产生高能量、高密度等离子体的一种新型磁控溅射技术。该技术具有较高的溅射材料离化率,其制备的薄膜可产生高致密度、高结合力以及高综合力学性能。然而HiPIMS存在沉积速率低、放电不稳定、溅射材料
comsol 等离子体 模块. 03-08. Comsol 等离子体 模块是用于模拟低温 等离子体 源或系统的专业用具。. 借助这个模块，工程师或科学家可以探究物理放电机理或用于评估现有或未来设计的性能。. 等离子体 相关 期刊 -详细介绍（网址、影响因子、审稿速度、录用比例 ...
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脉冲功率及等离子体技术. 1）发展了气体放电研究方向，主要从事大气压辉光放电机理研究和超高气压（~100大气压）气体在超短脉冲（~1ns）作用下的放电理论研究。. 大气压下辉光放电的研究得到了教育部和学校985的资助，建设了比较完善的实验装置。. 根据 ...
低温等离子体因其高能量、高导电性，近年来子体发射源可分为：容性耦合射频源、感性耦合射受到了国内外研究学者的广泛关注，在催化辅助、频源、微波电子回旋共振源和螺旋波源[7-10]。其中，沉积薄膜、医疗卫生、环境保护、流动控制、表面处容性耦合射频（CCRF）源的结构简单、能在低输入 ...
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利用流体模型模拟和发射光谱实验诊断相结合的方法, 研究了中等气压、 中等功率下射频容性耦合等离子体的放电特性。 理论上, 采用基于流体模型的COMSOL软件仿真, 建立一维等离子体放电模型, 以Ar气为工作气体, 研究了不同气压以及不同射频输入功率下等离子体电子温度和电子密度的分布规律。
常压放电低温等离子体辐射特性测量实验[J].光电工程,2007,34(1):41-45. 3 任庆磊,林麒.低温等离子体的光谱测量研究[J].光谱实验室,2007,24(5):839被引量：7 4 傅鑫,王悦,栗保明.大气压下低温表面等离子体
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是在磁控靶上施加低占空比的高功率脉冲以产生高能量、高密度等离子体的一种新型磁控溅射技术。该技术具有较高的溅射材料离化率,其制备的薄膜可产生高致密度、高结合力以及高综合力学性能。然而HiPIMS存在沉积速率低、放电不稳定、溅射材料
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