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干法刻蚀技术的应用与发展. 在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。. 而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。. 经过二十多年的发展， 经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。. 一定 ...
我自己是不吃乳制品的，也控糖控油。. 所以做了一手纯素版白巧克力！. 真的绝～这期视频前半部分都是可可脂科普，相信可以解决你实际遇到的一些问题～正式制作其实非常简单！. 只需要3种原料，分分钟就可以搞定啦！. ","excerpt":"老规矩，不吃乳制品的千万 ...
MEMS工艺类文章投稿求助. 各位好！. 因本人是新虫，悬赏的金币不怎么多。. 希望得到大家的帮助。. 本人写了一篇利用MEMS工艺的关深反应离子刻蚀技术刻蚀高深宽比的深槽文章。. 想投一篇影响因子在1.5-2.5的SCI国外期刊！. 哪位大侠能指点一下投什么类型的期刊 ...
1.2、市场规模：2020 全球预计超700亿美元，中国大陆占比超20%. 2020年全球半导体设备市场规模预计超700亿美元。. 根据2018年12月12日SEMI在SEMICON Japan 2018展览会上发布年终预测报告显示，2018年新的半导体制造设备的全球销售额预计将增加9.7%达到621亿美元，超过2017年 ...
等离子体刻蚀工艺的研究现状和发展趋势关键词：等离子体刻蚀工艺，湿法刻蚀，干法刻蚀 Abstract: plasmaetching has been widely used nationaldefense industry privateenterprises, papersums up practicalapplication, introduces developmentfrom wet etching dryetching, reviews currentsituation plasmaetching ...
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