薄膜制备新技术研究发展论文

1. 张炳，李国军，任瑞铭，耐高温有机硅油墨的制备与表征，有机硅材料,2011,25（1）:18-22；2. 林继辉，李国军，任瑞铭，40Cr钢端淬试验过程的数值模拟，热处理，2010，25（4）:54-57；3. 崔学军，李国军，卢俊峰，王修春，任瑞铭，正极材料LiFePO4充放电原理及改性研究，材料导报，2010,24（6）:53-57；4. 董洪亮，李国军，崔学军，任瑞铭，有机硅KH570改性硅溶胶杂化涂层的制备与研究，化工新型材料，2010,38（3）:88-90；5. 崔学军，李国军，董洪亮，任瑞铭，铝合金表面不燃有机-无机复合涂层的制备与表征, 材料科学与工程学报，2009,27（5）:704-708；6. 崔学军，李国军，董洪亮，任瑞铭，二次喷涂改性无机涂层，涂料工业，2009，39（7）：41-44；7. 张琦，李国军，任瑞铭，新型无铅铁电陶瓷BaTi2O5粉体的制备，陶瓷，2009，12，28-30；8. 郑杰，李国军，李宝伟，黄浩，刘晓光, 沉积温度及走丝速度对SiC纤维拉伸强度和B4C涂层厚度、表面形貌的影响, 航空材料学报, 2008, 28（4）：61-649. 崔学军,李国军,任瑞铭.无机非膨胀型防火涂料的现状及发展的可行性.上海涂料, 2007, 45[1]:30-3310. 崔学军,李国军,任瑞铭，一种无机防火涂料制备工艺的研究。涂料工业，37（12）：56-6011. 崔学军,李国军,任瑞铭，硅溶胶-单组分水性氟树脂复合涂料的制备.化工新型材料.2007，35（12）：63-6512. 崔学军，李国军，任瑞铭。提高CeO2基固体电解质电性能的几种方法。陶瓷科学与艺术。2006，40（1）：9－1313. 崔学军,李国军,任瑞铭，高分子网络微区沉淀法制备纳米NIO粉体。2006年高技术陶瓷学术年会。稀有金属材料与工程，2007,36（增刊）：76-7914. 李逵，李国军，任瑞铭，工艺参数对微区沉淀法制备纳米MgAl2O4粉体的影响，稀有金属材料与工程，2007,36（增刊）：84-8715. 崔学军,李国军,任瑞铭，铝合金用有机-无机（硅溶胶）复合涂料的制备研究.材料保护,2008,41(6):37-4016. 崔学军,李国军,任瑞铭,铝合金表面硅溶胶防火涂层的研制, 电镀与涂饰, 2008, 27(4): 43-4617. 李国军，任瑞铭，黄校先，郭景坤，纳米晶氧化镍的制备及表征，无机化学学报，2004，20（3）：287-290；（SCI）18. 李国军, 任瑞铭, 刘小光，仝建峰，陈大明, 多孔阴极材料制备及性能研究, 硅酸盐学报，2004，32（2）：209-21219. 李国军，黄校先，郭景坤，Al2O3/Ni金属陶瓷显微结构和力学性能的研究，无机材料学报，2004，19（3）：546-552；（SCI、Ei 收录）20. 李国军，刘晓光，陈大明，凝胶注模技术制备材料过程中的几个问题，航空材料学报，2004，24（1）：32-3521. 李国军，任瑞铭，黄校先，郭景坤，工艺参数对醇法制备纳米晶NiO尺寸的影响，中国粉体技术，2004，10（2）：8-1022. 李国军，黄校先, 郭景坤，陈大明，烧成温度对Al2O3/Ni复合材料的致密化、物相组成和显微结构的影响，复合材料学报，2003，20(2):58-63;（Ei）23. 李国军,黄校先, 郭景坤，晶内/晶间复合型Al2O3/Ni纳米金属陶瓷显微结构和力学性能的研究，无机材料学报，2003，18(1):71-77; (SCI、Ei)24. 李国军, 陈大明，黄校先, 郭景坤，残余应力对Al2O3/Ni金属陶瓷断裂行为和力学性能的影响，材料工程，2002, : 36-3847. 李国军，刘晓光，陈大明，锰酸镧水基料浆稳定性的研究，中国稀土学报, 2002, 20（增刊），126-12825. 李国军, 陈大明，黄校先, 郭景坤, 包裹和热压工艺制备Al2O3/Ni金属陶瓷，航空材料学报，2002，22（1），1-5; (Ei)26. 李国军，赵世柯，黄校先，郭景坤，Ni包裹Al2O3复合粉体的制备，无机材料学报，2002, 17(2), 235-240;(SCI、Ei)27. 李国军,黄校先, 郭景坤，陈大明，醇-水法制备纳米晶NiO粉体，功能材料，2002，33(4)：398-400;28. 李国军, 刘晓光，陈大明，Ni含量对Al2O3/Ni金属陶瓷的致密度、晶粒尺寸和断口形貌的影响，材料工程，2002, （增刊）224-227;29. 李国军,黄校先,郭景坤, Al2O3基金属陶瓷界面润湿性的改善, 材料导报，2001,15(4),. 李国军, 刘晓光，陈大明，Ni含量对Al2O3/Ni金属陶瓷的致密度、晶粒尺寸和断口形貌的影响，材料工程，2002, （增刊）224-227;31. 李国军, 黄校先, 郭景坤, Al2O3基金属陶瓷的研究现状, 材料导报, 2000，14(9), 22-2432. 李国军,黄校先,唐绍裘,郭景坤, 2Y2O3-xCeO2对ZTM复相陶瓷相组成、显微结构、力学性能的影响，材料科学与工程，2000，18(3), 43-4733. 李国军,黄校先,唐绍裘,郭景坤, ZTM复相陶瓷材料的原位反应烧结过程的研究, 陶瓷学报, 2000，21(2)，63-67;34. 唐绍裘，李国军，谢志鹏，莫来石-氧化锆复相陶瓷材料原位反应烧结机理的研究，材料科学与工艺，2000，8（3），21-25;35. 李国军，唐绍裘，曾爱香，余润洲，Al2O3含量对ZTM复相陶瓷材料结构与性能的影响，现代技术陶瓷，1998，19(,增刊)489-49336. 李国军，李德意，余润洲，PSZ的含量对Al2O3-PSZ复合陶瓷抗弯强度和断裂韧性的影响，火花塞与特种陶瓷，1997，, 45-4760. 37.李国军，任瑞铭，刘小光，仝建峰，陈大明, 凝胶注模制备多孔阴极材料, 稀有金属材料与工程,2005，34（2）；244-247（SCI）38. 李国军，任瑞铭，陈春焕，刘小光，仝建峰，陈大明，料浆的制备及流变性能的研究，稀有金属材料与工程, (增刊1)：393-396；39. 李国军，吴艳波，陈春焕，螯合物-凝胶法制备粉体，稀有金属材料与工程，2005，34（增刊）1-440. 刘晓光，李国军，仝建峰，周洋，陈大明，硼吖嗪聚合物先驱体热解制备BN基复合材料，航空材料学报，2002，22（3）：55-58; (Ei)41. 刘晓光, 李国军仝建峰周洋陈大明氧化锆电解质薄膜制备技术最新研究进展，材料导报，2002, 16(11): 35-38;42. 刘晓光，陈大明，李国军，仝建峰，周洋，氧化锆固体电解质水基凝浇注模低成本制备技术，稀有金属材料与工程 2002, 31（增刊1）: 225-228; (SCI)66. 刘晓光，李国军，陈大明，氧化锆水料浆稳定性研究，材料工程，2003，9：30-33; (Ei )545443. 刘晓光，李国军，仝建峰，陈大明，8%Y2O3-ZrO2水基料浆的流变性质研究，硅酸盐学报，2003，31（10）：923-927；(Ei)44. 刘晓光，李斌太，李国军，陈大明，水基凝胶注模法制备稳定氧化锆坯体的研究，硅酸盐通报，2003,6: 68-70(78)；45. 余润洲，李国军，唐绍裘，有机湿化学法制备a-Al2O3超细粉末的研究，陶瓷工程，1997，31，增刊，65-68 (第三届全国工程陶瓷学术年会)46. 余润洲，李国军，李德意，陶瓷材料烧结技术的进展，陶瓷工程，1997，31（6），35-38

光学薄膜行业市场参与者较多

使用“企查猫”企业大数据平台，以“光学薄膜”为关键词，通过查询企业名称、品牌、经营范围、企业简介中涵盖“光学薄膜”的企业，筛选注册资本在1万元以上的企业，得到以下数据。

根据企查猫查询数据显示，我国光学薄膜行业历年新注册企业数量呈现不断上升的趋势。截至2022年11月，中国光学薄膜行业注册企业共有3741家，其中2021年新注册企业数量创历史高峰，达449家。总体来看，中国光学薄膜行业企业参与者不多，但近年来热度较高，新进入企业数量快速提高。

代表性企业销量规模增长良好

2018-2021年，中国光学薄膜行业主要企业光学薄膜产品销量基本呈现良好的增长势头，销量规模持续扩大。其中，销量规模增速最快为东材科技，2019年其销量规模为万吨，2021年为万吨，三年间销量规模增长了3倍，主要系2021年公司收购山东胜通，新增4万吨光学膜产能，并借助良好的市场顺利实现销售。长阳科技、裕兴股份2019-2021年销量规模复合增速分别达到以及。

注：由于口径统计差异，双星新材2018-2019年以“聚酯薄膜”口径统计销量、长阳科技2018年以“反射膜及背板基膜”合并统计销量，与光学薄膜口径有差异，故不纳入相关数据。

2018-2021年，激智科技光学膜业务整体销量规模整体较为平稳，2021年达到亿平方米，同比增长;斯迪克从2019年的亿平方米增长至2021年的亿平方米，三年间销量规模复合增速达到。

注：斯迪克统计口径为“功能性薄膜材料及电子级胶粘材料销量”。

光学薄膜市场规模扩张较快

结合双星新材公告及tbTEAM数据，2019年，中国光学薄膜行业市场规模约354亿元。光学薄膜下游行业主要是消费电子产品，目前中国电脑出货量约是全球出货量的2/3，而根据Counterpoint公布的2021年度全球手机产量数据，中国贡献了全球手机产量的67%，中国已成为全球消费电子制造大国，因此中国光学薄膜行业市场规模增速应高于全球增速的增速。结合中国光学薄膜行业代表性企业营收规模增长情况，初步测算，2021年中国光学薄膜行业市场规模约为425亿元。

行业投融资热度较高

光学薄膜行业属于新材料行业中的膜材料行业，由于统计口径限制，在烯牛数据中筛选膜材料行业进行搜索，可见2017-2022年，我国膜材料行业投融资规模处于波动增长的状态。总体来看，投融资事件数量较多，行业的投融资热度较高。截至2022年12月13日，本年度投融资事件共36起，本年度投融资数量水平维持高位。

注：2022年数据截至2022年12月13日。

未来市场规模复合增速超10%

目前，中国已经成为全球最大的消费电子产品生产国、出口国和消费国，随着中国人均收入水平的不断提高，消费者对液晶电视、手机、电脑等消费类电子产品品质要求不断提升，更新换代频率加快，长远看需求依然强劲。而伴随着5G技术、物联网技术的发展，穿戴式产品、家庭居住等新型智能硬件产品迅猛发展，光学薄膜产品下游产品范围不断延伸，新型应用场景的不断丰富，也将带动显示光学薄膜的下游市场需求增长。此外，随着国内产品国产替代的步伐加快，预计2022-2027年，中国光学薄膜行业市场规模增速仍高于全球平均水平，复合增速约，2027中国光学薄膜行业市场规模约769亿元。

—— 更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《中国光学薄膜行业发展前景与投资战略规划分析报告》

光学薄膜技术是一门交叉性很强的学科，它涉及到光电技术、真空技术、材料科学、精密机械制造、计算机技术、自动控制技术等领域。光学薄膜是一类重要的光学元件，它广泛地应用于现代光学光电子学、光学工程以及其他相关的科 学技术领域。它不仅能改善系统性能(如减反、滤波)，而且是满足设计目标的必要手段。光学薄膜可分光透射，分光反射，分光吸收以及改变光的偏振状态或相位，用作各种反射膜，增透膜和干涉滤光片，它们赋予光学元件各种使用性能，对光学仪器的质量起着重要或决定性的作用。

科学家曾经预言21世纪是光子世纪。21世纪初光电子技术迅速发展，光学薄膜器件的应用向着性能要求和技术难度更高、应用范围和知识领域更广、器件种类和需求数量更多的方向迅猛发展。光学薄膜技术的发展对促进和推动科学技术现代化和仪器微型化起着十分重要的作用，光学薄膜在各个新兴科学技术中都得到了广泛的应用。

一、光学薄膜的制造技术

光学薄膜可以采用物理气相沉积（PVD)、化学气相沉积（CVD)和化学液相沉积（CLD）三种技术来制备。

1、物理气相沉积（PVD）

PVD需要使用真空镀膜机，制造成本高，但膜层厚度可以精确控制，膜层强度好，目前已被广泛采用。在PVD法中，根据膜料气化方式的不同，又分为热蒸发、溅射、离子镀及离子辅助镀技术。其中，光学薄膜主要采用热蒸发及离子辅助镀技术制造，溅射及离子镀技术用于光学薄膜制造的工艺是近几年才开始的。

热蒸发

光学薄膜器件主要采用真空环境下的热蒸发方法制造，此方法简单、经济、操作方便。尽管光学薄膜制备技术得到长足发展，但是真空热蒸发依然是最主要的沉积手段，当然热蒸发技术本身也随着科学技术的发展与时俱进。 在真空室中，加热蒸发容器中待形成膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。

热蒸发的三种基本过程：由凝聚相转变为气相的相变过程；气化原子或分子在蒸发源与基片之间的运输，即这些粒子在环境气氛中的飞行过程；蒸发原子或分子在基片表面的沉积过程。

溅射

溅射指用高速正离子轰击膜料表面，通过动量传递，使其分子或原子获得足

够的动能而从靶表面逸出（溅射），在被镀件表面凝聚成膜。

与蒸发镀膜相比，其优点是：膜层在基片上的附着力强，膜层纯度高，可同时溅射不同成分的合金膜或化合物；缺点是：需制备专用膜料靶，靶利用率低。

溅射的方式有三种：二级溅射、三级/四级溅射、射频溅射。

离子镀

离子镀兼有热蒸发的高成膜速率和溅射高能离子轰击获得致密膜层的双优效果，离子镀膜层附着力强、致密。离子镀常见类型:蒸发源和离化方式。

特点：

a、膜附着力强。这是由注入和溅射所致。

b、绕镀性好。原理上，电力线所到之处皆可镀上膜层，有利于面形复杂零件膜层的镀制。

c、膜层致密。溅射破坏了膜层柱状结构的形成。

d、成膜速率高。与热蒸发的成膜速率相当。

e、可在任何材料的工作上镀膜。绝缘体可施加高频电场。

粒子辅助镀

在热蒸发镀膜技术中增设离子发生器—离子源，产生离子束，在热蒸发进行的同时，用离子束轰击正在生长的膜层，形成致密均匀结构(聚集密度接近于1)，使膜层的稳定性提高，达到改善膜层光学和机械性能。

离子辅助镀技术与离子镀技术相比，薄膜的光学性能更佳，膜层的吸收减少，波长漂移极小，牢固度好，该技术适合室温基底和二氧化锆、二氧化钛等高熔点氧化物薄膜的镀制，也适合变密度薄膜、优质分光镜和高性能滤光片的镀制。

2、化学气相沉积（CVD）

化学气相沉积就是利用气态先驱反应物，通过原子、分子间化学反应的途径来生成固态薄膜的技术。

CVD一般需要较高的沉积温度，而且在薄膜制备前需要特定的先驱反应物，在薄膜制备过程中也会产生可燃、有毒等一些副产物。但CVD技术制备薄膜的沉积速率一般较高。

3、化学液相沉积（CLD）

CLD工艺简单，制造成本低，但膜层厚度不能精确控制，膜层强度差，较难获得多层膜，还存在废水废气造成的污染问题，已很少使用。

二、光学薄膜的种类

用光学功能薄膜制成的种类繁多的光学薄膜器件，已成为光学系统、光学仪器中不可缺少的重要部件。其应用已从传统的光学仪器发展到天文物理、航天、激光、电工、通信、材料、建筑、生物医学、红外物理、农业等诸多技术领域。

分为 ： 基本光学薄膜、控光薄膜、光学薄膜材料

1、基本光学薄膜

基本光学薄膜是指能够实现分光透射、分光反射、分光吸收和改变光的偏振状态或相位，可用于各种反射膜、增透膜和干涉滤波片的薄膜，它赋予光学元件各种使用性能，对保证光学仪器的质量起到决定性的作。

减反膜（增透膜）

减反膜是用来减少光学元件表面反射损失的一种功能薄膜。它可以有单层和多层膜系构成。单层膜能使某一波长的反射率为零，多层膜在某一波段具有实际为零的反射率。在应用中，由于条件和应用对象不同，其所用的减反膜的类型与诸多因素有关，例如基片材料、波长领域、所需特征及成本等。

a、单层减反膜

为减少光的反射消耗，增大光线的透射率，常在玻璃的表面上沉积一层减反膜。其原理是光的干涉现象。只要膜的折射率小于玻璃基片的折射率，就能都实现光的减反射作用。

b、多层减反膜

多层减反膜主要是为了改进单层减反膜的不足，进一步提高减反膜的效果，因而采用增加膜层层数的措施。

反射膜

反射膜的作用与减反膜相反，它是要求把大部分或几乎是全部入射光反射回去。如光学仪器、激光器、波导管、 汽车 、灯具的反射镜，都需要沉积镀制反射薄膜。反射膜有金属膜和介质膜两种

a、金属反射膜

金属反射膜具有很高的反射率和一定的吸收能力。金属高反射膜仅用于对膜的吸收损耗没有特殊要求的场合。

b、介质反射膜

金属高反射膜的吸收损失较大，在某些应用中，如多光束干涉仪、高质量激光器的反射膜，就要求沉积低吸收、高反射的全介质高反射膜。

2、控光薄膜

控光薄膜分为阳光控制膜、低辐射率膜、光学性能可变换膜三种 。

、阳光控制膜

在玻璃上镀上一层光学薄膜，使玻璃对太阳光中的可见光部分有较高的透射率，而对太阳光中的红外部分有较高的反射率，并对太阳光中的紫外线部分有很高的吸收率。将它制成阳光镀膜幕墙玻璃，就能保证白天建筑物内有足够的亮度等等

、低辐射率膜

在玻璃的表面镀制一层低辐射系数的薄膜，称为低辐射率膜，俗称隔热膜，它对红外线有较高的反射率。

、光学性能可变换膜

光学性能可变换膜是指物质在外界环境影响下产生一种对光反应的改变，在一定外界条件（热、光、电）下，使它改变颜色并能复原，这种变色膜是一类有广阔应用前景的光学功能材料。

3、光学薄膜材料

、金属和合金

金属和合金是较为广泛的薄膜，具有反射率高、截止带宽、中性好、偏振效应小以及吸收可以改变等特点，在一些特殊用途的膜系中，它们有特别重要的作用。

、化合物（电介质）

化合物是有重要用途并广泛应用的光学薄膜，主要有：卤化物、氧化物、硫化物和硒化物。

、半导体

半导体材料在近红外和远红外区透明，是一类重要的光学薄膜材料。在光学薄膜中使用最普遍的半导体材料是硅和锗。

三、光学薄膜研究的趋势

综合国内外光学及光学薄膜的研究现状，光学薄膜的研究呈现以下几个发展趋势：

1、继续重视对传统光学仪器中光学薄膜应用的研究和开发，提高薄膜的光学质量，研究大面积镀膜技术及其应用；

2、开发与新型精密光学仪器及光电子器件要求相适应的光学薄膜及其材料的制备方法，以满足现代光学、空间技术、 军事技术和全光网络技术日益迫切的需要；

3、开发极端光谱条件下的光学薄膜，如超窄带密集型波分复用滤波片，软X射线膜，高功率激光膜等的制备技术；

4、开发与环境保护息息相关的“绿色光学薄膜”，实现光能与人类 健康 需要的相互协调；

5、研究光学薄膜的材料物理、成膜过程的原位观察，实现镀膜过程的自动控制和超快速低温镀膜。

时至今日，光学薄膜已获得很大的发展，光学薄膜的生产已逐步走向系列化、 程序化和专业化，但是，在光学薄膜的研究中还有不少问题有待进一步解决， 光学薄膜现有的水平还需要进一步提高。科学家曾预言21世纪是光子世纪，而光学薄膜作为传输光子并实现其各种功能的重要载体，必然会在光学、光电子学及光子学获得突破性发展的同时，得到进一步的繁荣和发展。

登录点击《涂布材料库》查阅更多产品资料：

还是自己写吧，这个有点困难。