高折射率材料吸收特性对193+nm+HfO2SiO2Y2O3SiO2Al2O3SiO2多层膜反射特性的影响
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上海理工大学上海光学仪器研究所;中国光学学会工程光学专业委员会ISSN:1005-5630CN:31-1504/TH周期:双月语种:中文开本:大16开影响因子:0.270被引次数:4835影响力:Caj-cd规